可控高溫原位X射線測試臺
            簡要描述:
            可控高溫原位X射線測試臺是一種集成了高溫控制與X射線衍射分析功能的科研設備。適用于晶體材料物相定性和定量分析、衍射譜的指標化和點陣參數的測定、晶粒尺寸及點陣畸變的測定、薄膜物相的測定以及原位高溫結構變化的動態分析等。
 廠商性質:生產廠家 廠商性質:生產廠家
 更新時間:2025-06-20 更新時間:2025-06-20
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                    詳情介紹
        | 品牌 | 中科萬垣 | 
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一、產品概述:
 
可控高溫原位X射線測試臺主要用于研究材料在高溫環境下的結構變化與性能表現,適用于晶體材料物相定性和定量分析、衍射譜的指標化和點陣參數的測定、晶粒尺寸及點陣畸變的測定、薄膜物相的測定以及原位高溫結構變化的動態分析等。通過該設備,研究人員可以在不破壞樣品的情況下,直接觀察材料在高溫下的結構演變,為材料科學、化學、物理等領域的研究提供有力支持。
 
二、裝置參數:
 
1.裝置包含溫控器,原位池腔體,加熱系統,上位機軟件,真空系統;
 
2. 裝置采用PID智能控制,USB信號傳輸,溫度曲線數據采集,可存儲,可調取;
 
3.可多點溫控校正,溫度可限設置,溫度可以多程序段設置;
 
4.溫度范圍常溫-1000℃,控溫精度小于0.3℃,升溫速率:80℃/min;
 
5.裝置采用電阻加熱,傳感器置于樣品下方,能直觀反映樣品真實溫度變化;
 
6.升溫臺直徑25mm, 窗采用半球型結構,平面360°無遮擋采集,進口PEEK材質;
 
7.裝置采用O型圈密封,密封良好,可以抽真空,可充通反應氣體;
 
8. 裝置采用航空鋁材質,裝置外形110mm*80mm*50mm,凈重0.5Kg;
 
9.腔體冷卻方式:采用循環水冷卻;
 
10.裝置.操作簡單,安裝方便,測試一致性好;
 
11. 裝置廣泛應用在各大主流衍射儀品牌上以及同步輻射,無需改裝儀器。
 
三、應用領域:
 
可控高溫原位X射線測試臺廣泛應用于材料科學、化學、物理等領域的研究中,特別是在研究材料在高溫下的結構變化、性能表現以及反應機理方面具有重要意義。
 
綜上所述,是一種功能強大、易于操作與維護的科研設備,為材料科學、化學、物理等領域的研究提供了有力支持。
 

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